MicroLED实现大规模商用的核心阻碍，来源于行业沿用传统照明LED的制造体系。传统照明46英寸LED产线的制造模式，难以达到显示级MicroLED对微米级加工精度、全域百万级像素均匀性、PPM级缺陷管控的严苛标准。同时，受衬底规格、设备能力与生产环境约束，蓝宝石基MicroLED产线工艺窗口狭窄，很难放大到规模化量产场景，芯片良率与像素均匀性难以实现突破。这也导致大量MicroLED技术成果仅停留在小规模产品验证阶段，良率不足、制造成本过高、交付能力低下、全彩化落地困难等产业化瓶颈，全面制约产品向消费级市场渗透。针对上述行业痛点，星钥半导体跳出传统显示器件的研发范式，引入成熟半导体制程，重塑MicroLED全链条制造体系。
公司自创立之初即锚定8英寸硅基GaN核心技术路线，依托经过数十年产业验证的标准化半导体晶圆制造平台，从材料体系、器件工艺、集成模式三大底层维度，打通MicroLED规模化量产的技术通路，建成覆盖外延生长、芯片制造、晶圆键合的IDM全流程能力。
2025年9月，公司建成国内首条8英寸硅基氮化镓MicroLED全流程中试产线，打通氮化镓外延生长、芯片制造、晶圆键合全工序链条，规划年产能约1.2万片晶圆。目前，公司单色MicroLED芯片已开启批量生产，双色及三色（全彩）集成样品已开始送样，头部客户导入与产品验证工作已全面开展，有望在下一阶段给市场带来全面突破。
红光是行业公认实现MicroLED全彩化的核心难点，也是决定产品实现规模量产与商业化落地的关键瓶颈。星钥半导体同步布局铝镓铟磷（AlGaInP）与铟镓氮（InGaN）两条红光技术路线：AlGaInP路线依托成熟材料基础，可快速实现红光器件性能突破；InGaN路线可在统一材料体系内实现RGB集成与单片全彩，具备更高的工艺协同性和更大的产业化潜力。2026年5月，公司在SID国际显示周正式发布红、绿、蓝三原色全系列MicroLED微显示屏，推出具备量产可行性的近眼显示完整解决方案，推动产品向全彩化、产业化方向加速演进。
MicroLED光通信与微显示技术高度同源，依托先进的8英寸硅基平台，成熟的量产工艺，公司在稳步推进MicroLED显示业务的同时，正式切入MicroLED光通信领域，现已向产业合作伙伴送样开展产品验证测试，加速推进技术从研发走向产业化验证。
