据外媒MicroLED-info消息，近日，印度政府批准了Crystal Matrix Limited公司在古吉拉特邦建设一座Micro LED和Mini-LED生产厂的新项目，总投资预计为320亿印度卢比（约合3.38亿美元，22.98亿人民币）。
新工厂位于Dholera，将建立一座集化合物半导体制造和ATMP（组装、测试、标记和封装）于一体的综合工厂，生产6英寸GaN Micro LED和Mini-LED晶圆，以及Mini-LED和Micro-LED显示屏。 根据已获批准的计划，Crystal Matrix 的新工厂年产能将达到72000平方米显示面板和24000片ink-id="link-1778207794206-0.670869598367499">外延片。企业表示，其目标产品涵盖广泛的显示领域，从大尺寸电视面板到IT和智能手机显示屏，再到微型显示屏。 另据企业官网显示，GaN外延片生产计划包括生产6英寸红、绿、蓝三种颜色的GaN和AlGaInP LED外延片；同时，企业与Lumens和Soft-Epi公司合作开发该生产技术。 针对Micro LED 模块（显示器）的生产，企业计划建造一座ATMP（组装、测试、标记和封装）工厂，用于生产 Mini LED/Micro LED COB/ink-id="link-1778207794206-0.09697337256509919">COG 显示面板。 企业表示，COB是当前小间距主流技术架构，2024-2025年新品屏体占比达57%。COG通过ink-id="link-1778207794208-0.5761178881240092">巨量转移技术将Micro-LED 裸芯片转移至玻璃基板，采用 TFT 式有源矩阵行列驱动，并通过ink-id="link-1778207794211-0.5260821641465909">各向异性导电膜（ACF）完成键合；最终可实现模块深度小于3毫米，对比度达OLED级别，大于1000000:1，并且通过AM驱动IC可实现高达12000 Hz的刷新率。 与此同时，针对MLED面板规格，Crystal Matrix具备CxL-FP（模块化）和CxL-AIO（一体化）两大产品系列，支持HDR10 / HDR10+、高刷新率及广色域标准，且采用倒装LED 架构设计，共阴极供电方案，适用影院、广电演播、董事会议室、指挥中心等场景。 据了解，Crystal Matrix Ltd.成立于2021年，是一家专注于开发基于GaN的Mini/Micro-LED显示器的开发商；自2016年以来，企业一直在探索Mini/Micro-LED显示屏生态系统。 面向未来，企业表示，此次建立印度首个基于氮化镓的显示器制造生态系统，可实现从组装主导型运营到先进制造的战略转型。同时，通过设计、研发并制造蓝宝石氮化镓器件、Mini/Micro-LED 显示面板、 ATMP 解决方案，也可巩固印度在半导体领域的实力。
