产品机型：37片机

GAN MOCVD机 外延片炉    BDS反应腔体

通过中心辐射流动与垂直喷淋流动相结合吸收行星反应腔体流层的优点，而无需行星反应腔体所需的复杂运动

优势：避免复杂运动，设计上可扩展

GAN MOCVD机 外延片炉    气流模式

准确实现反应气体的瞬时切换在保持腔体流场不变的情况下，可实现反应气源从连续到脉冲注入的切换

优势：气流的流动方式、反应气体浓度、组分及参杂等级一步柔性可控；满足用户不同膜层的界面的要求，纳米级薄膜厚度精确可控

GAN MOCVD机 外延片炉   加热炉体

采用多区电阻片红外辐射加热区域可以独立控制，加热片形状经过独特设计，

优势：实现大面积温度可控，获得更广范围的加热温区

GAN MOCVD机 外延片炉   控制系统

采用网络架构，实现传感器与执行器实时控制：根据不同外延工艺对实时性的敏感性进行针对性设计；提供工艺工程师熟悉的控制界面，指示清晰，操作简便

优势：保证生产的重复性与稳定性，方便用户熟悉使用