据悉，拓荆科技本次向特定对象拟发行股票数量不超过本次发行前公司总股本的30%，即不超过84,349,179股，保荐机构为中信建投证券。
本次定增募集资金总额不超过人民币460,000.00万元，扣除发行费用后的募集资金净额，将重点投入高端半导体设备产业化基地建设项目、前沿技术研发中心建设项目，并补充流动资金，其中前沿技术研发将覆盖各类高端薄膜沉积设备。
公开资料显示，拓荆科技成立于2010年4月，是国家高新技术企业，主要从事半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务，目前，公司已在北京、上海、海宁、青岛、沈阳等地，以及美国、BVI、新加坡、日本设立子公司。
拓荆科技构建了完善的产品矩阵，主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备、次常压化学气相沉积（SACVD）设备等系列，其产品应用覆盖Micro LED、Micro OLED显示等高端技术领域。
除Micro LED相关应用外，拓荆科技的产品还广泛应用于集成电路晶圆制造、先进存储和先进封装、HBM、MEMS等多个高端领域，已进入北京、上海、武汉、合肥、天津、台湾等20多个地区的70多条生产线。
业绩方面，2025年，公司实现营业收入约65.19亿元，同比增长约58.87%；归属于母公司所有者的净利润约9.29亿元，同比增长约35.05%；归属于母公司所有者的扣除非经常性损益的净利润约7.26亿元，同比增长约103.79%。
报告期内，营业收入同比增长58.87%，主要系公司产品竞争力持续提升，公司应用于先进存储、先进逻辑领域的PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD等先进工艺设备进入规模化量产，并实现收入转化；先进键合设备在客户拓展方面取得了关键突破，销售收入实现了大幅增长。
